• Design mit hoher Reinheit: verfügt über eine Oberflächenbeschichtung von 10 Ra-Mikro-Zoll/0,25 Mikron, um Gasverschmutzung zu vermeiden und die Einhaltung der Anforderungen an Halbleiter, Pharma und Forschung zu gewährleisten.
• Hohe Empfindlichkeit: Feinabstimmungen ermöglichen eine präzise Druckregulierung, die für Anwendungen wie analytische Instrumente und Gaschromatographie von entscheidender Bedeutung ist.
• Niedriger Druck: Verringert den Energieverbrauch und den Verschleiß der Anlagen und erhöht so die Gesamteffizienz bei Hochstromprozessen.
• Haltbarkeit: aus 316L Edelstahl und optionalem Hastelloy®-Ventilinneren für Korrosionsbeständigkeit in aggressiven Medien gefertigt.

• Druckbehandlung: Einlass bis zu 3500 psig/241 bar; Auslass auf 150 psig/10,3 bar einstellbar.
• Leckfestigkeit: UL-Qualifizierte geringe Leckage (<10−7 mbar·L/s Helium) für gefährliche oder teure Gase.
• Temperaturbereich: -40°C bis 71°C (-40°F bis 160°F) mit Teflon-PFA-Sitzen.

• Herstellung von Halbleitern: Gasverteilung in Reinräumen und Waferherstellung.
• Laborgeräte: Massenspektrometrie, Lasersysteme und Gasanalyse.
• Industriegasbehandlung: Zylinderschränke, Ventilboxen und Spezialgasversorgung.

• Vielseitigkeit: Anpassungsfähig an ätzende Gase (z. B. NH3, Cl2) und inerte Medien mit anpassbaren Konfigurationen.
• Sicherheit: Die statisch-dissipative Konstruktion minimiert die Entzündungsgefahren für pyrophorische Gase.
• Einhaltung der Vorschriften: erfüllt die USP-Klasse VI, BPE und ISO 17025-Standards für biopharmazeutische und analytische Arbeitsabläufe.

64-3600 Referenz für die Produktmuster der TESCOM-Regulatorserie mit hoher Empfindlichkeit