• Doppelte Hochdruckquelle: stellt eine kontinuierliche Gasversorgung mit niedrigem Durchfluss unter unterschiedlichen Bedingungen sicher, was für Anwendungen wie Analysatorträgergas und Laserresonatoren, die ein stabiles, hochreines Gas benötigen, von entscheidender Bedeutung ist.
• Raumersparendes Design: Wandmontierte Konfiguration minimiert den Fußabdruck, ohne die Funktionalität zu beeinträchtigen, ideal für Labore, Produktionsflächen oder Einrichtungen mit begrenztem Platz.
• Präzisionssteuerung: Beibehält strenge Gasreinheit und Durchflusskonsistenz und erfüllt die hohen Standards von Analyseinstrumenten und industriellen Verfahren.
• Vielseitigkeit: Handhabung einer breiten Palette von Gasen, einschließlich ätzender und inertierter Medien, mit Materialien wie 316 Edelstahl und Viton®/PCTFE Dichtungen, die die Haltbarkeit gewährleisten.

• Druckbehandlung: Unterstützt hohen Einlassdruck mit einstellbaren Auslassbereichen (z. B. 0 ̊20 bar/0 ̊290 psig).
• Leckfestigkeit: UL-Klassifizierte geringe Leckage (<10−7 mbar·L/s Helium) für den sicheren Umgang mit gefährlichen Gasen.
• Moduläres Design: Einfache Integration in bestehende Systeme über Standardverbindungen (z.B. G 3/8, M 12×1).

• Analyselabore: Gaschromatographie, Massenspektrometrie.
• Industrieerzeugung: Laserschnitt, Herstellung von Halbleiterwafern.
• Energie und Umwelt: Wasserstoffbrennstoffzellen, CO2-Abscheidungssysteme.

• Zuverlässig: Überflüssiger Betrieb mit zwei Quellen verhindert Ausfallzeiten.
• Sicherheit: Statisch-dissipative Konstruktion und Einhaltung der Normen ISO 17025, USP Klasse VI und BPE.
• Einfache Benutzung: Intuitive Steuerungen und schnelle Wartung verringern die Betriebskomplexität.

Spezifikationen

Auswahlprobe für die Spannungsregler der Baureihe CR441800